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高鈰拋光液

高鈰拋光液的關鍵技術：公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉，通過將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化，按照相應的比例和參數，物理合成適量的稀土元素，通過合成、過濾、分級等工藝，使產品滿足不同拋光產品和材質的要求。應用領域：該系列產品主要用于集成電路、半導體硅片、電子芯片等產品的拋光。